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淺析光學(xué)高溫計(jì)應(yīng)用說(shuō)明
發(fā)布日期：
2018-04-23
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2018
提供了一種光學(xué)高溫計(jì)和一種使用該光學(xué)高溫計(jì)處理半導(dǎo)體的設(shè)備，該光學(xué)高溫計(jì)具有減少接收部的污染的結(jié)構(gòu)。其他方面將在下面的描述中部分地進(jìn)行闡述，并且部分地通過(guò)該描述將是清楚的，或者可以通過(guò)給出的示例性實(shí)施例的實(shí)施而明了。根據(jù)本公開(kāi)的一方面，光學(xué)高溫計(jì)包括:接收部，具有用于接收加熱單元的光輻射的接收端；和殼部，覆蓋除接收部的接收端以外的接收部，其中，接收部的接收端的與接收部的接收端的縱向垂直的截面的面積朝接收部的接收端的端部減小。
接收部的接收端可以具有半球形形狀、錐形形狀、圓錐形形狀、截圓錐形形狀、多棱錐形形狀和截多棱錐形形狀中的任意一種。光學(xué)高溫計(jì)還可以包括用于將凈化氣體注入接收部和殼部之間的凈化氣體注入部。通過(guò)凈化氣體注入部注入的凈化氣體的流率可以設(shè)置成使得在接收部的接收端處產(chǎn)生的渦流為大的值。 接收部可以包括用于傳輸光的導(dǎo)光管。接收部可以由透明材料形成。
殼部的端部可以相對(duì)于接收部的接收端的端部突出。接收部的接收端可以布置成鄰近加熱單元。根據(jù)本公開(kāi)的另一方面，半導(dǎo)體處理設(shè)備包括:室，用于容納基底，所述基底用來(lái)處理半導(dǎo)體；加熱單元，用于加熱室的內(nèi)部；和高溫計(jì)，用于檢測(cè)室的內(nèi)部的溫度，所述高溫計(jì)包括接收部和殼部，接收部具有接收端，接收端用于接收加熱單元的光輻射，殼部覆蓋除接收部的接收端以外的接收部，其中，接收部的接收端的與接收部的接收端的縱向垂直的截面的面積朝接收部的接收端的端部減小。接收部的接收端可以具有半球形形狀、錐形形狀、圓錐形形狀、截圓錐形形狀、多棱錐形形狀和截多棱錐形形狀中的任意一種。半導(dǎo)體處理設(shè)備還可以包括用于將凈化氣體注入接收部和殼部之間的凈化氣體注入部。通過(guò)凈化氣體注入部注入的凈化氣體的流率可以設(shè)置成使得在接收部的接收端處產(chǎn)生的渦流為大的值。接收部可以包括用于傳輸光的導(dǎo)光管。接收部可以由透明材料形成。殼部的端部可以相對(duì)于接收部的接收端的端部突出。接收部的接收端可以布置成鄰近加熱單元。半導(dǎo)體處理設(shè)備可以是有機(jī)化學(xué)沉積設(shè)備。半導(dǎo)體處理設(shè)備還可以包括被加熱單元加熱并用于支持室中的基底的支持物，其中，接收部的接收端布置成鄰近支持物。支持物可以是用于支持基底的襯托器
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